
阿斯麦公司(台译:艾司摩尔控股公司)ASML Holding NV(NASDAQ:ASML、Euronext:ASML)创立于1984年,1998年从ASM International剥离出来,前称ASM Lithography Holding N.V.,于2001年改为现用名,总部位于荷兰Veldhoven,全职雇员43,193人,是一家半导体设备设计、制造及销售公司。ASML Holding是全球最大的半导体设备公司,也是全球唯一的极紫外光刻机生产商,其他领先公司还包括光刻机厂商尼康、佳能等。
阿斯麦公司 ASML Holding(ASML)美股百科
ASML Holding N.V.(通常简称为ASML,最初为Advanced Semiconductor Materials Lithography的缩写)是一家总部位于荷兰的跨国公司,专注于光刻机的研发与制造,这些设备用于生产集成电路。截至2023年,ASML是全球半导体行业最大的设备供应商,并且是全球唯一能够提供极紫外光(EUVL)光刻机的厂商,这类设备是制造最先进芯片所必需的。
截至2024年11月,ASML是欧洲第四大市值公司,也是欧洲第二大科技公司,市值约为2,640亿美元。
ASML成立于1984年,由荷兰科技公司Philips与ASM International合资创建,并于1995年成为完全独立的公司。ASML的全球总部位于荷兰Veldhoven,是其研发、制造和组装的核心基地。ASML拥有来自143个国家的员工逾42,000人,并依赖近5,000家一级供应商组成的网络。ASML拥有遍布全球的客户基础,在16个国家设有60多个服务据点,并在荷兰、美国、比利时、法国、德国、爱尔兰、以色列、意大利、英国、中国、香港、日本、韩国、马来西亚、新加坡和台湾设有办公室。
ASML Holding N.V. 为先进半导体设备系统的开发、生产、市场营销、销售、升级和维修提供光刻解决方案。ASML 提供光刻、计量和检测系统。公司还提供极紫外光刻系统;以及包含浸没式和干式光刻系统解决方案的深紫外光刻系统,用于制造各种半导体节点和技术。此外,阿斯麦公司还提供计量和检测系统,包括用于评估晶圆上图案质量的 YieldStar 光学计量系统;以及用于识别和分析单个芯片缺陷的 HMI 电子束解决方案。再者,阿斯麦公司还提供计算光刻解决方案、光刻系统和控制软件解决方案;翻新和升级光刻系统,并提供客户支持和相关服务。还有,阿斯麦公司还为芯片制造商提供用于生产集成电路图案的硬件、软件和服务。
阿斯麦公司 ASML Holding(ASML)产品百科
ASML生产用于集成电路制造的光刻机,这些设备被称为“扫描仪”。在这些机器中,光学图案会被投影到覆盖有光敏材料(光刻胶)的硅片上。该过程会在单片晶圆上重复数十次。随后光刻胶将经过进一步处理,以在硅片上形成实际的电子电路。ASML的机器所涉及的光学成像技术几乎用于所有集成电路的制造,截至2011年,ASML占据全球光刻机市场67%的销售份额。
ASML早期的竞争对手包括Ultratech、Canon和Nikon、MKS Instruments、Lam Research以及Cadence Design Systems。
浸没式光刻技术
自从Burn-Jeng Lin在1970年代首次提出浸没式光刻概念以来,ASML与TSMC展开了合作。2004年,TSMC开始使用ASML的浸没式光刻技术实现90纳米制程的商用化生产。截至2011年,ASML的高端系统TWINSCAN NXT:1950i可实现32纳米特征尺寸的生产速度,每小时可处理多达200片晶圆,该系统使用水浸透镜和氟化氩激光器,发出波长为193纳米的光。截至2011年,单台光刻机的平均售价为2,700万欧元。
深紫外光刻(DUV)
ASML的深紫外光刻(DUV)设备利用穿透紫外光谱的光源打印出构成微芯片结构的微小特征。
极紫外光刻(EUV)
极紫外光刻(EUV)是一项关键技术,用于制造最小且最复杂的芯片设计。ASML几乎垄断了EUV市场。其设备可以刻画小至8纳米的图案,相当于人类头发宽度的万分之一。
EUV光刻机通过将高能激光聚焦到微小的熔融锡滴上,产生等离子体,从而发出波长为13.5纳米的EUV光。光线随后反射至Zeiss镜面,并投射到硅片表面,形成芯片图案。
2009年,比利时的IMEC研究中心使用原型EUV光刻机制造出了全球首个功能性22纳米CMOS静态随机存取存储器单元。经过数十年的开发,ASML在2011年或2013年交付了首台量产EUV光刻机。
截至2022年,ASML已出货约140台EUV系统。其中销量最好的EUV产品为TWINSCAN NXE:3600D,单台售价高达2亿美元。该设备重达180吨,运输时需要三架波音747飞机。
ASML正在开发下一代EUV系统,首批研发用途的设备已于2023年12月运往Intel,随后于2024年下半年交付TSMC。该新平台被命名为High-NA,其数值孔径(NA)从0.33提高至0.55;每套系统的价格约为3.7亿美元。
近年来,受现代电子产品日益复杂和性能要求提升的推动,ASML的EUV设备需求急剧增长,带动公司营收持续上涨,从五年前的130亿美元增长至2023年的300亿美元。
阿斯麦公司 ASML Holding(ASML)财务数据
财年 | 2017 | 2018 | 2019 | 2020 | 2021 | 2022 | 2023 | 2024 |
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营收 | 9,053 | 10,944 | 11,820 | 13,979 | 18,611 | 21,173 | 27,559 | 28,263 |
净利 | 2,119 | 2,592 | 2,592 | 3,554 | 5,883 | 5,624 | 7,839 | 7,572 |
资产 | 18,196 | 20,137 | 22,630 | 27,267 | 30,231 | 36,300 | 39,958 | 48,590 |
雇员 | 16,219 | 20,044 | 23,219 | 26,614 | 29,861 | 36,112 | 42,416 | 43,395 |
阿斯麦公司 ASML Holding(ASML)历史百科
ASM Lithography于1984年由荷兰公司ASM和Philips合资成立。该公司于1988年成为独立的上市公司,并更名为ASML,这是其正式名称,并非缩写。
1991年,ASML推出了光刻系统PAS 5500,这一平台为公司带来了巨大的成功。PAS 5500最早由全球最大计算机内存和存储制造商之一的Micron Technology使用,当时Micron是ASML最大的客户。PAS 5500系列的成功使ASML开始强势挑战当时光刻市场的领导者Canon和Nikon。
1997年,ASML开始研究向极紫外技术的转型,并于1999年加入一个由Intel及另外两家美国芯片制造商组成的财团,借此利用美国能源部进行的基础研究。由于ASML所参与的合作研究与开发协议(CRADA)由美国政府资助,相关技术许可需获得国会批准。ASML还与比利时的IMEC和Sematech展开合作,并寻求德国Carl Zeiss提供反射镜技术。
2000年,ASML收购了美国光刻设备制造商Silicon Valley Group(SVG),该公司也获得了EUV研究成果的使用许可,ASML此举是为了向Intel提供193纳米扫描设备。
2002年,ASML成为全球最大的光刻系统供应商。
2008年底,ASML经历了销售大幅下滑,管理层因此裁减了全球约1000名员工,主要是合同工,并申请荷兰国家失业基金支持,以避免更大规模的裁员。两年半后,ASML预计将实现创纪录的营收。
2012年7月,Intel宣布将向ASML投资41亿美元,换取15%的股份,以加速从300毫米向450毫米晶圆的转型,并推动EUV光刻技术的进一步发展。该交易不包含对ASML未来产品的专属权利,同年7月,ASML又向其他公司提供了其10%的股份。作为其EUV战略的一部分,ASML于2012年10月宣布收购DUV和EUV光源制造商Cymer。
2013年11月,ASML暂停450毫米光刻设备的开发,理由是芯片制造商的需求时间仍不确定。
2015年,ASML遭遇知识产权盗窃事件。数名员工被发现从其位于硅谷的软件子公司窃取机密数据,该子公司专注于机器优化软件的开发。
2016年6月,ASML宣布计划以约31亿美元收购总部位于台湾的Hermes Microvision Inc.,以获取制造更小、更先进半导体的技术。
2018年,特朗普政府试图阻止ASML向中国出售技术,但截至2021年,全球芯片短缺以及中美之间的“技术冷战”成为ASML的商业机遇。2019年2月,ASML加入了eBeam Initiative——一个支持电子束技术在光罩和光刻中应用的联盟。
2020年11月,ASML宣布收购德国光学玻璃制造商Berliner Glas Group,以满足其EUV系统日益增长的组件需求。
2021年7月,欧盟专员Thierry Breton访问ASML,并宣布到2030年将实现欧洲在全球半导体产量中占比至少20%的目标,并通过“欧洲半导体联盟”予以支持。ASML在2021年7月财报中表示,公司几乎垄断了供TSMC和Samsung Electronics制造先进芯片所用设备的市场。
2023年2月,ASML声称一名前中国员工“涉嫌”窃取其技术信息。2023年10月,荷兰报纸NRC Handelsblad报道,涉嫌窃取ASML技术数据的前员工随后加入了Huawei。
2023年3月,荷兰政府为了保护国家安全,对芯片设备出口实施限制措施。作为全球微芯片供应链中最关键的企业之一,ASML受到该措施影响。出口许可规定于2023年9月生效。
2023年6月,荷兰人权委员会裁定,ASML被允许拒绝来自受到美国《出口管理条例》制裁国家居民的求职申请,以保持对美国法律的合规性。
2024年1月,荷兰政府进一步限制向中国出口部分先进芯片制造设备。
2024年9月6日,荷兰政府再次收紧对特定ASML芯片制造设备的出口管制,其政策与美国保持一致,旨在出于安全和地缘政治考虑限制中国获取先进技术。
2025年1月,这些限制进一步扩大,ASML须向荷兰政府申请出口许可证,而不再通过美国渠道。
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阿斯麦公司(ASML Holding N.V.)是总部位于荷兰费尔德霍芬的半导体设备制造商,公司同时在欧洲和美国NASDAQ上市。阿斯麦公司在世界16个国家和地区有60个子公司和生产据点。阿斯麦公司的主要产品是用来生产大规模积体电路(集成电路)的核心设备——光刻机(曝光机)。在世界同类产品中有90%的市占率,在10纳米节点以下有100%的市占率——是全球唯一能够生产EUV光刻机(极紫外光刻机)的公司。
ASML Holding N.V.为存储器和逻辑芯片制造商开发,生产,销售,销售和服务先进的半导体设备系统,其中包括与光刻相关的系统。
阿斯麦公司提供极紫外光刻系统;包括浸没式和干式光刻解决方案的深紫外光刻系统,用于制造各种半导体节点和技术。
阿斯麦公司还提供计量和检查系统,包括YieldStar光学计量解决方案,用于测量晶圆上图案的质量;和HMI电子束解决方案来定位和分析单个芯片缺陷。
此外,阿斯麦公司还提供计算光刻和软件解决方案,以创建可增强光刻系统设置的应用程序; 以及翻新二手光刻设备并提供相关服务的成熟产品和服务。
阿斯麦公司在日本,韩国,新加坡,台湾,中国,荷兰,欧洲,中东,非洲,美国和亚洲其他地区运营,生产与研发单位则分别位于美国康涅狄格州、加州、台湾以及荷兰。